２槽使用 特注低背タイプの離型剤希釈装置です。
数年前になりますが、元々設備導入や改良に関してエーディーシステムズ株式会社様にサポートをしていただいていましたが、離型剤希釈装置の濃度が不安定であり、何とか安定して希釈できる方法はないかと相談させていただいたのがきっかけでした。
希釈方法を見直していただき、回収液濃度の自動測定からの自動希釈、濃度センサーの自動洗浄、水位管理に問題のあったタンクの水位センサー改善から各液の使用量の収集タイミング変更まで、問い合わせに対して非常に柔軟に対応していただき、アイデアから要望の実現まで手厚くサポートをいただきました。
導入後明確に希釈液濃度が安定しました。
製造工程で重要管理項目である濃度が安定し、設定値からずれることが無くなったため、製品の品質向上と共に濃度管理が設定値の変更以外不要となり作業性が大幅に改善されました。
希釈槽水位センサーの改善に至っては、以前はオーバーフローなどにより原液の過剰消費が発生していましたが同事象の発生は無くなりました。また水位を任意で設定できるために回収液に油分などが混入している場合はあえてオーバーフローする様に設定することも可能で、こちらも作業性向上につながっています。
